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掩模板可以應用于電子束蒸發,熱蒸發,磁控濺射等設備中,用來制備OPV、OLED、鈣鈦礦太陽能電池,光電探測器,場效應晶體管等各種器件圖形化薄膜和電極。
按照目前的激光加工工藝條件,掩膜版能做到的技術參數如下,供大家參考!,
1.價格掩模板是空隙(挖孔)大小在1mm以上,實體間隔1mm以上(不是孔陣列),誤差在0.1mm,速度快。
2.在0.3mm厚度的304不銹鋼板上,制作的線條(實體)寬0.4mm以上,鏤空(挖孔)0.4mm,誤差是50um左右,速度較快。
3.精度要求高的是在0.1mm厚度的304不銹鋼板上,制作的線條(實體)寬0.15mm以上,鏤空(挖孔)0.15mm,誤差是30um左右,速度較快。非孔陣列的情況下,鏤空(挖孔)可以做到0.1mm。
4.激光加工可以制作線寬0.05mm的叉指電極掩膜版,實體部分誤差30um,空隙部分誤差20um,請合理考慮誤差,并根據誤差情況,設計好自己的圖案結構,圖案結構設計合理,能事半功倍。價格相對較貴。
激光切割一般都會打磨,但是滿足正常的實驗需要沒有問題。有特殊要求的客戶一定要提前說明。
請買家盡量提供CAD圖紙(DWG或DXF格式),如果實在不能提供,請提供可以準確描述掩模板規格的草圖。
由于都是定制的產品,具體價格需要發圖紙確認后,才能正式報價!
華諾梁工竭誠為您服務!
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